弁理士・米国弁護士紹介
駒井 愼二（第17996号）
学歴
大阪教育大学附属天王寺高校卒業
同志社大学工学部化学工学科卒業
主な職歴
住友大阪セメント株式会社 知的財産部担当部長
主な専門分野
知的財産戦略、化学工学（単位操作）、意匠、商標、不正競争防止法、独占禁止法
コメント
今まで約25年間に渡る企業知財部（現場）と特許事務所（実務）の経験を活かし、御社の技術・ブランドを経営戦略／事業戦略に貢献できるようお手伝いします。
外部活動
荒木 佳幸（第14889号）
資格
学歴
福井大学工学部電子工学科卒
主な職歴
カメラメーカー勤務・東京都内某特許事務所勤務
主な専門分野
電気、機械、光学、制御、通信
コメント
企業知財部の経験を活かし、発明の発掘から権利活用まで幅広く対応させて頂きます。常にクライアント様の立場に立って、的確で、きめ細やかなサービスの提供を心掛けています。
井上 彰文（第17353号）
学歴
広島大学医学部総合薬学科卒・広島大学大学院医学系研究科生命薬学専攻修了
主な職歴
医薬品メーカー勤務・東京都内某特許事務所勤務
主な専門分野
化学・材料全般（有機EL素子用材料、光電変換素子用材料、液晶素子用材料、フォトレジスト材料、粘・接着材料、フィルム材料、生体材料など）、医療器具関連、分析装置関連、電子機器関連、微細加工技術関連
コメント
国内企業様の数多くの国内出願および外国出願を担当してきた経験を活かし、化学分野のスペシャリストとしての立場から、クライアントの皆様に満足いただけるサービスを提供いたします。
大橋 邦彦（第07622号）
学歴
法政大学法学部卒・早稲田大学理工学部技術専門学校機械専科修了
主な職歴
東京都内某特許事務所勤務
主な専門分野
機械・ビジネスモデル・意匠・商標・外国出願関係全般
コメント
国際知的所有権保護協会、アジア弁理士協会、弁理士会国際活動委員会、実務研修会、等の活動を通して国内外のクライアントに最新情報に基づく最適な知財保護の提供を目指しています。個人・中小企業のクライアントには取得後の権利活用支援を行っています。
丸山 幸雄（第10130号）
資格
学歴
神奈川県立新城高等学校卒・神奈川大学工学部電気工学科卒
主な職歴
企業の研究所・研究開発部でコンピュータハードウェア設計、専用端末装置設計を担当。その後大塚国際特許事務所勤務を経て現職。
主な専門分野
医療機器関連、情報機器関連、ビジネスモデル特許関連、アミューズメント関連、自動車関連、コンデンサ等の電子素子関連、意匠・商標出願、及びこれらの中間処理、審決取消訴訟及び争訟事件担当、知的財産権に関する各種コンサルティング、その他
コメント
企業での開発経験及び特許事務所業務経験により、担当者及び発明者との良好なコミュニケーションに基づいたきめ細かで質の高い対応が可能であり、内外国への特許出願などの発明技術の権利化及び商標登録出願による商標権利化業務を基本としながら、関連分野のライセンス関連、争訟事件、意匠を含めた知的財産の活用に関する総合サービスを提供いたします。
その他
日本弁理士会常議員、副会長、日本弁理士会関東支部副支部長、その他各種委員会を経験、前日本弁理士会会長室長
池田 直文（第19119号）
学歴
千葉工業大学工学部金属工学科卒業
主な職歴
プラント建設会社勤務（金属・溶接研究所、海外プロジェクトG）・東京都某特許事務所勤務
主な専門分野
各種金属材料・金属加工、溶接技術、プラント・原子力機器、自動車（燃料電池、二次電池）、医療機器、光学機器、電気通信技術、ソフトウェア、制御技術など
コメント
約33年間に亘る特許実務経験において、2､000件を超える特許明細書を作成して参りました。
御社の漠然とした技術を発明として具現化するお手伝いをさせて頂きます。
外部活動
林 裕己（第16748号）
資格
学歴
九州大学工学部応用物質科学科卒業
主な職歴
ソフトウェア開発会社勤務
東京都内某特許事務所勤務
主な専門分野
情報通信・制御・画像処理・ソフトウェア・化学・電子工学・機械等
コメント
これまでは、国内大手ソリューション企業の特許明細書の作成に従事し、様々な状況下での権利化をサポートしてきました。その際に重要な点はクライアント様とのコミュニケーションです。よりよい権利は、クライアント様とのコミュニケーションの中で生まれていくことが多いように思います。今後も、クライアント様とのコミュニケーションを重視して、知的財産に関する権利の支援を行っていきます。
外部活動
宮下 和晃（第19443号）
資格
学歴
富山県立富山中部高校卒業
京都大学工学部高分子化学科卒業
京都大学大学院工学研究科高分子化学専攻修了
主な職歴
大手フィルムメーカー勤務
米国工場（サウスカロライナ州）駐在（５年）
主な専門分野
高分子化学、材料科学（有機・無機）、フォトレジスト材料、フィルム材料
コメント
企業での研究開発・生産立上げ等において日本とアメリカでの研究開発から製造現場に至る経験を活かし、クライアント様との細やかなコミュニケーションにより、満足いただけるサービスの提供を心がけてまいります。
外部活動
山口 隆史（第12410号）
学歴
日本大学理工学部物理学科
東京理科大学工学部第二部電気工学科
主な職歴
東京都内某特許事務所勤務
主な専門分野
電気、機械、メカトロニクス、複写機関連、
液晶や有機ELのディスプレイの構造・プロセス、半導体プロセス等
コメント
お客様とのコミュニケーションを大切にし、質の高い明細書の提供を心掛けています。
大平 恵美
資格
学歴
名古屋大学法学部法律学科卒業
University of Southern California, Gould School of Law (LL.M)
主な職歴
日本特許事務所・外資系企業知財部・米国法律事務所勤務経験あり。
現在ロサンゼルスに拠点を置き、DSA Legal Solutions, Professional Corporation（弁護士法人）にて活躍中。
主な専門分野
米国訴訟の支援（製造物責任訴訟・特許権侵害訴訟・独禁法違反調査等）、米国における商標・著作権侵害に関する相談、守秘義務契約・共同開発契約等を含む英文契約書作成等、情報管理支援、その他米国における通常の会社業務に関わる法律業務